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Skin 1004
SKIN1004 - Madagascar Centella Tea-Trica Relaxing Maske
(0)
€3,99
✿ Beruhigende und klärende Gesichtsmaske, speziell entwickelt für zu Unreinheiten neigende Haut. Ihre Formel kombiniert Teebaumöl, Centella Asiatica, Niacinamid und Salicylsäure, um Irritationen zu lindern, überschüssigen Talg zu regulieren und verstopfte Poren zu befreien. Die Haut ist frischer, beruhigt und die Hautstruktur sichtbar glatter.
✿ Hauttyp: Mischhaut bis fettige, empfindliche Haut und zu Unreinheiten neigende Haut
✿ Inhalt / Format: 24 ml – 1 Maske
✿ Vegan: Ja
✿ Hauptinhaltsstoffe: Teebaumöl, Centella Asiatica, Niacinamid, Salicylsäure, Panthenol und Allantoin
✿ Koreanische Routine: 5. Maske
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✿ Beruhigende und klärende Gesichtsmaske, speziell entwickelt für zu Unreinheiten neigende Haut. Ihre Formel kombiniert Teebaumöl, Centella Asiatica, Niacinamid und Salicylsäure, um Irritationen zu lindern, überschüssigen Talg zu regulieren und verstopfte Poren zu befreien. Die Haut ist frischer, beruhigt und die Hautstruktur sichtbar glatter.
✿ Hauttyp: Mischhaut bis fettige, empfindliche Haut und zu Unreinheiten neigende Haut
✿ Inhalt / Format: 24 ml – 1 Maske
✿ Vegan: Ja
✿ Hauptinhaltsstoffe: Teebaumöl, Centella Asiatica, Niacinamid, Salicylsäure, Panthenol und Allantoin
✿ Koreanische Routine: 5. Maske
Wasser, Butylenglykol, Glycerin, Niacinamid, 1,2-Hexandiol, Glycerylgucosid, Xylitylgucosid, Anhydroxylitol, Allantoin, Carbomer, Arginin, Xylit, Centella Asiatica Extrakt, Polyglyceryl-10-Laurat, Ethylhexylglycerin, Xanthan, Adenosin, Glukose, Dinatrium-EDTA, hydriertes Lecithin, Musa Sapientum-Bananenblütenextrakt, Rosa Damascena-Blütenwasser, Pyrus Communis-Birnenfruchtextrakt, Prunus Domestica-Fruchtextrakt, Squalan, Cucumis Melo-Melonenfruchtextrakt, Hedera Helix-Efeublatt-/Stängelessextrakt, Natriumhyaluronat, Ceramid NP, Cetylethylhexanoat, Cholesterin, Macadamia Ternifolia-Samenöl, Brassica Campestris-Rapsesterole, Ölsäure, Stearinsäure, Tocopherol, Hyaluronsäure 0,1 ppm, hydrolysierte Hyaluronsäure, hydrolysiertes Natriumhyaluronat, Hydroxypropyltrimoniumhyaluronat, Kaliumhyaluronat, Natriumhyaluronat-Crosspolymer, Pentylenglykol, Natriumacetyliertes Hyaluronat
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